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    產(chǎn)品中心

    PRODUCT CENTER

    營范圍為：醫(yī)療氣體，高純電子特氣，電光源，石油化工，環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)氣體，工業(yè)氣體，稀有氣體等。

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    吉安市吉州氣體有限公司

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    航空呼吸用氧

    氧氣是空氣的組分之一，無色、無嗅、無味。氧氣密度比空氣大，在標(biāo)準(zhǔn)狀況（0℃和大氣壓強101325帕）下密度為1.429克/升。大規(guī)模生產(chǎn)氧氣的方法是分餾液態(tài)空氣，首先將空氣壓縮，待其膨氧脹后又冷凍為液態(tài)空氣，由于稀有氣體和氮氣的沸點都比氧氣低，經(jīng)過分餾，剩下的便是液氧，可貯存在高壓鋼瓶中。

    液態(tài)氮氣

    液氮，液態(tài)的氮氣。是惰性的，無色，無臭，無腐蝕性，不可燃，溫度極低。氮構(gòu)成了大氣的大部分（體積比78.03%，重量比75.5%）。氮是不活潑的，不支持燃燒。汽化時大量吸熱接觸造成凍傷。氮氣占空氣78%。

    液態(tài)氧氣

    氧氣是空氣的組分之一，無色、無嗅、無味。氧氣密度比空氣大，在標(biāo)準(zhǔn)狀況（0℃和大氣壓強101325帕）下密度為1.429克/升。大規(guī)模生產(chǎn)氧氣的方法是分餾液態(tài)空氣，首先將空氣壓縮，待其膨氧脹后又冷凍為液態(tài)空氣，由于稀有氣體和氮氣的沸點都比氧氣低，經(jīng)過分餾，剩下的便是液氧，可貯存在高壓鋼瓶中。所有的氧化反應(yīng)和燃燒過程都需要氧，例如煉鋼時除硫、磷等雜質(zhì)，氧和乙炔混合氣燃燒時溫度高達3500℃，用于鋼鐵的焊接和切割。玻璃制造、水泥生產(chǎn)、礦物焙燒、烴類加工都需要氧。液氧還用作火箭燃料，它比其他燃料更便宜。在低氧或缺氧的環(huán)境中工作的人，如潛水員、宇航員，氧更是維持生命所不可缺少的。但氧的活性狀態(tài)如、OH以及H2O2等對生物的組織有嚴(yán)重的損壞作用，紫外線對皮膚和眼的損害多與此種作用有關(guān)。 液態(tài)氧氣包裝運輸采用槽罐車運輸，杜瓦罐運輸、快易冷輸送、散裝生物罐

    二氯甲烷

    由于氣體放電燈電光源在燈的發(fā)光效率和工作壽命方面具有白熾燈無可比擬的優(yōu)勢，因此，從它誕生之日起就一直受到人們的廣泛關(guān)注，由此派生的產(chǎn)品可謂異彩紛呈，氣體放電電光源，主要是指弧光放電電光源和輝光放電電光源，例如熒光燈、高強度氣體放電燈和霓虹燈等?。

    溴氯甲烷

    照明行業(yè)常用的電光源主要分類為：1、熱致發(fā)光電光源（如白熾燈、鹵鎢燈等），電光源內(nèi)的填充氣體主要有氬氣、氪氣、氙氣、氮氣、氫氣、溴甲烷等鹵素氣等組成的混合氣；2、氣體放電發(fā)光電光源（如氙燈、碳弧燈、熒光燈、汞燈、鈉燈、金屬鹵化物燈等，填充氣有氙氣、氘氣、氪氣同位素等氣體組成的混合氣體）；3、固體發(fā)光電光源（如LED和場致發(fā)光器件等，沒有使用填充氣體）

    石油化工標(biāo)準(zhǔn)氣體

    主要氣體有汽車尾氣檢測標(biāo)準(zhǔn)氣體、環(huán)境監(jiān)測標(biāo)準(zhǔn)氣、石油化工標(biāo)準(zhǔn)氣、儀器儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、研制生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)氣體已取得國家制造計量器具許可證CMC證書(國制表標(biāo)物10001697號)。廣泛應(yīng)用于科研、醫(yī)療、環(huán)保、石油化工等領(lǐng)域

    環(huán)境監(jiān)測標(biāo)準(zhǔn)氣體

    主要氣體有汽車尾氣檢測標(biāo)準(zhǔn)氣體、環(huán)境監(jiān)測標(biāo)準(zhǔn)氣、石油化工標(biāo)準(zhǔn)氣、儀器儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、研制生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)氣體已取得國家制造計量器具許可證CMC證書(國制表標(biāo)物10001697號)。廣泛應(yīng)用于科研、醫(yī)療、環(huán)保、石油化工等領(lǐng)域

    超純氨氣

    超純氨是微電子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反應(yīng)為：750—850℃：SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2，850—900℃：3SiCl4+4NH3---Si3N4+12HCl。雖然NH3在半導(dǎo)體制造用量不大，但在光電子領(lǐng)域、超純氨是十分重要的原材料

    三氟化氮

    三氟化氮是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
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